LED-Wafer-Technologie epitaktischen
Datum:2011-06-07 17:11
Staat:ungeloest
Frage:admin
und Oberflchenschden Schicht, eine effektive Verbesserung der Silizium-Wafer Krmmung, Ebenheit und Parallelitt zu einer Politur kann Spezifikationen zu behandeln. Dieses Verfahren erzeugt Abflle Schleifen Tabletten.
Reinigung: Die Auflsung von organischen Lsungsmitteln, mit Ultraschall-Reinigungstechnik kombiniert werden, um organische Verunreinigungen im Silizium Oberflche zu entfernen. Dieses Verfahren erzeugt Biomll Gas und Abflle aus organischen Lsemitteln.
RCA-Reinigung: Reinigung durch Mu
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