LED-Wafer-Technologie epitaktischen
Datum:2011-06-07 17:11
Staat:ungeloest
Frage:admin
t werden. Dieser Prozess wird erzeugen Abflle Schwefelsurenebel und Schwefelsure.
DHF-Reinigung: mit bestimmten Konzentration von Flusssure zu entfernen die natrliche Oxidschicht Siliziumoberflche, und an das Metall in der natrlichen Oxidschicht wurde in die Reinigungslsung gelst, whrend DHF hemmt die Bildung der Oxidschicht. Dieses Verfahren erzeugt Fluorwasserstoff und Flusure Abflle.
APM-Reinigung: APM-Lsung, die Lsung durch einen bestimmten Prozentsatz des NH4OH, H2O2-Lsung Zusammensetzung,
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