LED-Wafer-Technologie epitaktischen
Datum:2011-06-07 17:11
Staat:ungeloest
Frage:admin
erzeugt die Oberflche des Siliziumoxidfilm H2O2-Oxidation (ca. 6 nm wurde hydrophil), die Oxidschicht hat NH4OH Korrosion, Oxidation erfolgte unmittelbar nach Korrosion, Oxidation und Korrosion wiederholt, so auf den Silizium-Oberflche der Partikel angeschlossen und auch mit der Korrosion der Metallschicht in der Reinigungsflssigkeit. Ammoniak und Ammoniak erzeugten Abflle hier. HPM Reinigung: von HCl-Lsung und H2O2-Lsung um einen bestimmten Prozentsatz von HPM, die Silizium-Oberflche fr die Ent
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