AMEC ausgestellt für 22-nm-Generation und unter Chip-Verarbeitung Ätzanlagen
Datum:2011-07-12 17:24
Staat:ungeloest
Frage:admin
tzen und Ionenkonzentration, unabhngige Kontrolle der Energie zu erreichen;
2, kann man die einzigartige VHF HF-Eingang und symmetrische Verteilung in die Massenproduktion Umfeld noch immer sicher, Wiederholbarkeit der Ergebnisse przise Steuerung;
3, proprietre Plasmatzproze zu konzentrieren stabiler und zuverlssiger, gibt es ein breiteres Prozessfenster;
4, die jeweils HF-Generator Stand-alone-Reaktion, die Reaktion setzt, bzw. Kontrolle und Einheitlichkeit des Etch-Endpunkt Kontrolle, so
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