Plasma Radierung von High-Brightness LED-Programm
Datum:2011-11-29 16:50
Staat:ungeloest
Frage:ningcuidi
erden seit 2005, kurz vor dem Wachstum des Unternehmens auf Saphir Grafiken getzt. Dies kann ein fertiges Produkt Licht Extraktion Gert Leistungsverbesserungen ber 98 % machen.
Sapphire ist eine sehr stabile Substanz, der Schmelzpunkt von 2.054, also schwierig Plasma etch. Dennoch vor der Reduzierung auf die blichen 150 Grad, zu sehr spezifischen Muster bilden Fotolack gibt es eine hohe Temp. PR ist der Prozess der Auswahl der Maske, die ultimative Kuppel-frmige sttzt sich auf allen Maske
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