Plasma Radierung von High-Brightness LED-Programm
Datum:2011-11-29 16:50
Staat:ungeloest
Frage:ningcuidi
l Silizium zum engen Temperatur Steuerungsplattform abrunden und stellt ein Wrmetrger zwischen der Workbench und Wafer, normalerweise Helium. Rckseite der das Helium Khlung eine Standardmethode zur Temperierung Einkristall geworden. HBLED Herstellung von derzeit kleinere Batches in das Stadtgebiet von Substrat, an die Radierung Werkzeuge auf Trgerplatte geliefert. Grafische Sapphire Substrat Radierung, HBLED Gerte macht immer noch 2-Zoll- oder 4 Zoll Wafer, so dass Sie erheblich reduzieren knnen
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