Plasma Radierung von High-Brightness LED-Programm
Datum:2011-11-29 16:50
Staat:ungeloest
Frage:ningcuidi
, es luft in einer Weise zu behandeln wie viele Wafer machbar sind. Eine groe Anzahl von optischen Verzgerung Film Radierung von Wafern erfordert jeder Wafer Temperatur-berwachung, die Sie bentigen, zu wissen, wie man aus der Probe Wrmebertragung, eine Abkhlung von der Plasma-Elektrode. Helium Khlung ist eine Taste auf der Rckseite, zur gleichen Zeit zu lernen, wie jeder Wafer Deao effiziente Khlung um Erfolg sicherzustellen. Die Technologie der viele Gren von 20 * 2 bis zu 43 * 2 Zentimeter in
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