Plasma Radierung von High-Brightness LED-Programm
Datum:2011-11-29 16:50
Staat:ungeloest
Frage:ningcuidi
ontakt Radierung Radierung.
4, leichten Kontakt Radierung
Wenn in der Kontakt-Schicht etch, Minimum ist von entscheidender Bedeutung fr Halbleiter Plasma durch Verletzungen verursacht oder Kontaktwiderstand erhhen drfte. Radierung Prozess erfordert sorgfltige Optimierung zum Maximieren des Durchsatzes, und gleichzeitig die Leistung des Gerts. Oberflche Radierung von hoher Qualitt glatte Oberflche oft.
Nicht optimierte tzvorgang kann GaN Radierung von Dislokation, die wiederum z
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