Ein japanischer Forschungseinrichtungen ZnO-Klasse 100ΜW verbessern UV-LED-Leistung
Datum:2011-05-27 12:45
ularstrahlepitaxie)-Methode und entwickelte eine radikale des Gases ist nicht Dotierung (Doping)-Methode verwendet. Auf diese Weise wird voraussichtlich eine hhere Produktion von MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition)-Verfahren erlassen. Verwendungszweck ist fr LCD-Hintergrundbeleuchtung und weier LED-Licht. Dies ist Kawasaki Northeastern University, Northeastern University, Institut fr Materialforschung, Universitt Tohoku Roma der gemeinsame Vielfache Materialwissenschaften Forschungsl
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